欢迎访问金属粉体行业门户!
免费注册 个人登录 企业登录
粉享通 | 粉享汇 | 粉享买卖 |

微信

关注微信公众号
| 广告服务 |

手机版

扫一扫在手机访问
金属粉体 > 技术中心 >
技术资料
气相扩散沉积法绝缘包覆铁镍钼合金粉体工艺优化
666 2017-04-26
编号:FTJS06475
篇名: 气相扩散沉积法绝缘包覆铁镍钼合金粉体工艺优化
作者: 郭春生 ;周炳贤 ;刘波 ;王学钊 ;汪小明 ;饶汝聪
关键词:铁镍钼软磁合金粉体 绝缘包覆 气相扩散沉积 二氧化硅 金属硅
机构:广州新莱福磁电有限公司;兰州大学物理科学与技术学院
摘要: 采用气相扩散沉积的方法对铁镍钼合金粉体进行绝缘包覆,金属硅粉先经氯化生成三氯氢硅蒸汽,接着进行水解得到二氧化硅,从而在铁镍钼软磁合金粉体表层沉积形成绝缘膜层。研究了工艺参数对包覆效果的影响并对其进行了优化。结果表明,硅粉沉积和水解过程中氩气最优流速分别为100 m L/min和50 m L/min,最优氯化锌和金属硅粉添加量分别为3wt%和4wt%。在此工艺条件下,铁镍钼软磁合金粉体绝缘包覆层均匀致密且具有耐高温、高电阻率特点。