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纳米铜粉的制备——从PCB碱性蚀刻废液回收方法研究

编号:FTJS04855

篇名:纳米铜粉的制备——从PCB碱性蚀刻废液回收方法研究

作者:罗小虎; 陈世荣; 杨琼; 谢金平; 吴耀程; 梁韵锐;

关键词:印制电路板; 碱性蚀刻液; 纳米铜粉;

机构: 广东工业大学; 广东致卓精密金属科技有限公司;

摘要: 利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NaBH4作还原剂;表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB);研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为:反应温度60℃,反应时间60 min,PVP与CTAB的用量为1:5,制备出来的纳米铜粉为单质铜,颗粒粒径在100nm以内。


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